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我国首次制备大规模锗基石墨烯 助推半导体工业

放大字体  缩小字体 发布日期:2013-08-29  来源:-ICCSINO-  作者:ICCSINO

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2013年8月29日热点新闻:   从中科院上海微系统所获悉,该所信息功能材料国家重点实验室SOI课题组与超导课题组,采用化学气相淀积法,在锗衬底上直接制备出大面积、均匀的、高质量单层石墨烯。相关成果日前发表于《自然》杂志子刊《科学报告》。  石墨烯在机械、电学、光学和化学方面的优异性能,使其具有巨大的应用前景。目前,化学气相沉积法是制备高质量、大面积石墨烯的最主要途径。但是,在石墨烯的生长过程中,金属基底是必不可少的催化剂,而随后的应用必须要将石墨烯从金属衬底上转移到所需要的绝缘或者半导体基底上。烦琐的转移过程容易造成石墨烯的结构被破坏和污染,难以与当前成熟的大规模集成电路工艺兼容,影响了基于石墨烯器件的大规模推广与应用。  鉴于此,在研究员狄增峰的指导下,博士生王刚等提出了在大尺寸锗基上利用化学气相淀积法直接制备石墨烯的...    [详细]
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